半導體超純水設備 保障半導體高質量發展
來源：未知????日期：2022-11-05????閱讀()
談論起超純水的復雜工藝,涉及多門學科,包括物理、化學、光化學、機械、空氣動力學等,依各種原水水質和客戶要求的不同,超純水的制備工藝大體分為預處理、初級制備和拋光處理三個步驟。整個制造過程中采用的工藝技術復雜而精細,不容偏差,制備難度涉及至少18個關鍵工藝環節。
預處理:MMF多介質過濾器 + ACF活性炭過濾器(常規處理方式)、MF微濾+UF超濾(新型處理方式)
初級制備:2B3T兩床三塔 + RO反滲透膜 + MB混床(常規處理方式)、兩級RO+EDI連續電解除鹽(新型處理方式)
拋光系統:TOC UV紫外線降TOC + PMB拋光混床 + MDG 脫氣膜裝置 + UF終端超濾
高頻科技 超純工藝的實踐者和賦能者
近年來,伴隨芯片市場的崛起,也為超純工藝技術企業帶來廣闊的機遇與挑戰,高頻科技不斷探索超純水的絕對純度,從多介質過濾、活性炭吸附、離子交換、反滲透膜、紫外線殺菌、紫外線TOC去除,再到電滲析、超濾、鈉濾、真空脫氣塔、膜脫氣等,涵蓋不止于18項專業處理工藝環節不斷提升超純水系統的應用效率,并在反滲透、離子交換、膜脫氣、紫外線殺菌和TOC降解等多項關鍵技術產品材料中也有著行業性的應用創新成果。高頻科技產水水質接近絕對純度,電導率無限接近18.2兆歐的理論極限值,其純度可達99%,不斷滿足半導體行業日趨提升的用水需求,并以此塑造了強大的行業技術壁壘,在國內超純工藝領域中厚積薄發,生根發芽。
預處理:MMF多介質過濾器 + ACF活性炭過濾器(常規處理方式)、MF微濾+UF超濾(新型處理方式)
初級制備:2B3T兩床三塔 + RO反滲透膜 + MB混床(常規處理方式)、兩級RO+EDI連續電解除鹽(新型處理方式)
拋光系統:TOC UV紫外線降TOC + PMB拋光混床 + MDG 脫氣膜裝置 + UF終端超濾
高頻科技 超純工藝的實踐者和賦能者
近年來,伴隨芯片市場的崛起,也為超純工藝技術企業帶來廣闊的機遇與挑戰,高頻科技不斷探索超純水的絕對純度,從多介質過濾、活性炭吸附、離子交換、反滲透膜、紫外線殺菌、紫外線TOC去除,再到電滲析、超濾、鈉濾、真空脫氣塔、膜脫氣等,涵蓋不止于18項專業處理工藝環節不斷提升超純水系統的應用效率,并在反滲透、離子交換、膜脫氣、紫外線殺菌和TOC降解等多項關鍵技術產品材料中也有著行業性的應用創新成果。高頻科技產水水質接近絕對純度,電導率無限接近18.2兆歐的理論極限值,其純度可達99%,不斷滿足半導體行業日趨提升的用水需求,并以此塑造了強大的行業技術壁壘,在國內超純工藝領域中厚積薄發,生根發芽。
