關于半導體超純水設備 科技繁復工藝皆為純凈
來源：未知????日期：2022-11-07????閱讀()
伴隨著工業技術網絡技術的不斷提高，大家都對半導體行業都有著較大的認知，但是對于半導體生產至關重要的超純水設備卻了解的非常少。在復雜的芯片及半導體材料等高精尖技術發展中，純水處理設備生產廠家為其起到了非常大的助力。當芯片的精密度越來越高,超純水作為生產環節中的關鍵角色,對水質純度的要求也越來越高。不同的制備技術也在迅速的發展起來，已成為工業用水廣泛的應用于一個核心門類。
另外硅片生產的濕法工藝采用腐蝕性和氧化性的化學溶劑進行噴霧、擦洗、蝕刻和溶解隨機缺陷,使硅片表面的雜質與溶劑發生化學反應生成可溶性物質、氣體或直接脫落,必須利用超純水清洗硅片表面并進行干燥,才可以獲得滿足潔凈度要求的硅片。
由此可見，生產芯片的用水并非日?？梢姷淖詠硭?或者是純凈水,半導體工廠生產和清洗半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示器、高精度電路板、光電器件等各種電子器件的時候,都需要用到電阻率為18兆歐以上的超純水,這樣的超純水幾乎不導電,不會影響電子產品的性能,同時水中幾乎不含金屬離子,不會對復雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。當集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也就越高。
半導體行業對超純水的指標要求極高,特別是晶圓制造,除了電阻率外,還集中反映在總有機碳、溶解氣體、顆粒物、菌群落、溶解氣、金屬離子、硅元素、硼元素等參數上(具體數據參考高頻科技超純水系統水質指標)
可想而知,超純水的指標要求越高,背后的制備工藝也越為繁復,對超純水系統的要求也更為嚴苛。
另外硅片生產的濕法工藝采用腐蝕性和氧化性的化學溶劑進行噴霧、擦洗、蝕刻和溶解隨機缺陷,使硅片表面的雜質與溶劑發生化學反應生成可溶性物質、氣體或直接脫落,必須利用超純水清洗硅片表面并進行干燥,才可以獲得滿足潔凈度要求的硅片。
由此可見，生產芯片的用水并非日?？梢姷淖詠硭?或者是純凈水,半導體工廠生產和清洗半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示器、高精度電路板、光電器件等各種電子器件的時候,都需要用到電阻率為18兆歐以上的超純水,這樣的超純水幾乎不導電,不會影響電子產品的性能,同時水中幾乎不含金屬離子,不會對復雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。當集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也就越高。
半導體行業對超純水的指標要求極高,特別是晶圓制造,除了電阻率外,還集中反映在總有機碳、溶解氣體、顆粒物、菌群落、溶解氣、金屬離子、硅元素、硼元素等參數上(具體數據參考高頻科技超純水系統水質指標)
可想而知,超純水的指標要求越高,背后的制備工藝也越為繁復,對超純水系統的要求也更為嚴苛。
